主要研究設備
居室
居室やディスカッションスペースはタイルカーペット張りで土足禁止にしています。デスクワークもリラックスして取り組むことが出来ます。
学生居室
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准教授室＋ディスカッションスペース
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合成設備
迅速な化合物の合成・単離を可能とするためにフラッシュ精製装置、リサイクル分取GPC、マイクロウェーブ合成装置などを導入しています。
フラッシュ精製装置はシリカゲルカラムクロマトグラフィーを自動かつ高速で可能にします。UV検出器もついているのでどのフラクションに目的物が含まれているかを予測しながら分取することが可能です。
リサイクル分取GPCは分子の排除体積の違いを利用して精製する装置です。デンドリマーはもちろん低分子の精製にも威力を発揮します。当研究室で導入しているモデルは一度に1 g程度までの精製が可能です。カラムは増設し、現在は排除限界1000,5000,20000の3本を備えています。
マイクロウェーブ合成装置は高温・加圧条件下での反応が可能です。通常の条件では困難な反応を進行させたり、反応時間を大幅に短縮することが出来ます。
フラッシュ精製装置はシリカゲルカラムクロマトグラフィーを自動かつ高速で可能にします。UV検出器もついているのでどのフラクションに目的物が含まれているかを予測しながら分取することが可能です。
リサイクル分取GPCは分子の排除体積の違いを利用して精製する装置です。デンドリマーはもちろん低分子の精製にも威力を発揮します。当研究室で導入しているモデルは一度に1 g程度までの精製が可能です。カラムは増設し、現在は排除限界1000,5000,20000の3本を備えています。
マイクロウェーブ合成装置は高温・加圧条件下での反応が可能です。通常の条件では困難な反応を進行させたり、反応時間を大幅に短縮することが出来ます。
フラッシュ精製装置
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マイクロウェーブ合成装置
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リサイクル分取GPC
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有機合成には危険も伴います。研究室では安全に配慮した配置や設備の導入を行うとともに耐薬マットなどを敷いて気持ちよく実験できるように心がけています。その一環として卓上フードやドラフトといった局所排気設備を充実させています。
卓上フード(横幅3600 mm)
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ドラフト
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ドラフト(元々研究所に設置されていたものですがしっかりと動いています)
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測定設備
新規物質の物性測定や反応追跡を目的として様々な機器を導入しています。下記以外にNMR, ESR, 各種MS, SEM, TEM, XRD, 単結晶X線回折装置, XPSなどを先導物質化学研究所の共通設備として使用しています。
紫外可視分光光度計(UV-2600)はダブルビーム方式のため高い精度で新規物質の吸収スペクトル測定はもちろん、滴定や分光電気化学実験などをすることが出来ます。
HPLCシステムは低圧グラジエントポンプとPDA(Photo Diode Array)、RI(Reflactive Index)検出器を備えています。化合物の定量を通じた反応追跡と標準試料との比較による高分子の分子量の測定などが可能です。
紫外可視分光光度計(UV-2600)はダブルビーム方式のため高い精度で新規物質の吸収スペクトル測定はもちろん、滴定や分光電気化学実験などをすることが出来ます。
HPLCシステムは低圧グラジエントポンプとPDA(Photo Diode Array)、RI(Reflactive Index)検出器を備えています。化合物の定量を通じた反応追跡と標準試料との比較による高分子の分子量の測定などが可能です。
紫外可視分光光度計(UV-2600)
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HPLCシステム(Nexera)
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蛍光分光光度計は発光材料の発光スペクトルを測定するだけでなくDelay timeを設けることでリン光測定も可能です。発光材料の評価として発光スペクトルだけでなく一重項や三重項準位の評価が可能であり新規材料の開発に力を発揮します！
クライオスタットは室温から77 Kまでサンプルを冷やしながら光学測定や電気測定が可能な装置です。蛍光分光光度計と組み合わせることで低温でのリン光測定を実現したり、共通機器である蛍光寿命測定装置を用いて温調下かつ制御雰囲気下での発光寿命測定を実現することが出来ます。
クライオスタットは室温から77 Kまでサンプルを冷やしながら光学測定や電気測定が可能な装置です。蛍光分光光度計と組み合わせることで低温でのリン光測定を実現したり、共通機器である蛍光寿命測定装置を用いて温調下かつ制御雰囲気下での発光寿命測定を実現することが出来ます。
蛍光分光光度計(Fluoro Max Plus)
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クライオスタット（Optistat DN）
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マイクロ天秤はUV-visスペクトル測定に使用する溶液などの調製のために使用します。1 mg弱の化合物量であってもμgの精度で秤量することが出来ます。
反射分光膜厚計は基板上に成膜したnm～μmオーダーの薄膜の膜厚や光学定数の測定ができます。また、光学定数が既知であれば多層膜の分析も出来ます。
有機ELなどに使用する有機薄膜の膜厚測定に威力を発揮します。
反射分光膜厚計は基板上に成膜したnm～μmオーダーの薄膜の膜厚や光学定数の測定ができます。また、光学定数が既知であれば多層膜の分析も出来ます。
有機ELなどに使用する有機薄膜の膜厚測定に威力を発揮します。
マイクロ天秤(MCE3.6P-2S01-M)
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反射分光膜厚計(FE-3000)
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プローバーは基板上の配線パターンなどに電極を接触させて電気計測を行うための器具です。
ナノギャップ電極の評価や分子接合デバイスの評価に使用しています。
ソースメーターは電流計測などに使用します。
fAレベルの微小電流計測が可能でナノギャップ電極の評価や分子接合デバイスの評価に使用しています。
また、ナノギャップ電極作成時の電圧印加にも使用しています。
レーザー加工機はレーザーを用いて切断や彫刻を行う装置です。
主に蒸着マスク作製時にカプトンフィルムを切断するために使用しています。
ナノギャップ電極の評価や分子接合デバイスの評価に使用しています。
ソースメーターは電流計測などに使用します。
fAレベルの微小電流計測が可能でナノギャップ電極の評価や分子接合デバイスの評価に使用しています。
また、ナノギャップ電極作成時の電圧印加にも使用しています。
レーザー加工機はレーザーを用いて切断や彫刻を行う装置です。
主に蒸着マスク作製時にカプトンフィルムを切断するために使用しています。
プローバー(HMP-400)
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ソースメーター(2612B)
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レーザー加工機(Podea-01 1.6W model)
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